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제품소개
R-In₂O₃
우수한 분상성을 가져 응집체 발생이 적어 기존과는 차별화되며, 타겟의 사용불량 요소 중 하나인 노듈의 발생률을 줄이고 고밀도용 타겟 소결에 적절한 입자 형태 및 크기를 나타냄.
응용
ITO 타겟 IGZO 타겟
고온증발법을 활용한 산화 나노분말 제조 공법으로 분산성이 우수하여 응집체가 적고 높은 고결정성을 가지고 있음. 고품질의 ITO 타겟 생산을 위한 최적화된 산화물 나노 분말임.
응용
ITO 타겟 IGZO 타겟
고온증발법을 활용한 산화 나노분말 제조 공법으로 분산성이 우수하여 응집체가 적고 높은 고결정성을 가지고 있음. 고품질의 ITO 타겟 생산을 위한 최적화된 산화물 나노 분말임.
비표면적 : 8~15 ㎡/g
입자크기 - Size(㎛)
D/10 |
D/50 |
D/90 |
< 0.2 |
< 0.5 |
< 1.5 |
순도
내용물 |
값 |
Al, As, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, CU, Fe, K, Mg, Mn, Ni, P, Pb, Sb, Si, Sn, Ti, W, Zn, Zr |
< 10ppm |
합계 |
< 50ppm |
특성
저응집(기상합성법) / 고결정성