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제품소개
X-SnO₂
ITO 타겟에 최적화 된 재료로서 높은 분산성과 비표면적을 가지고 ITO 타겟 뿐만 아니라 여러 분야에 응용이 가능한 재료임.
응용
IGZO 타겟 촉매제 정화제
고온증발법을 활용한 산화 나노분말 제조 공법으로 제조되었으며 균질한 크기와 품질을 가짐. 다양한 제품군으로 활용이 가능함.
응용
IGZO 타겟 촉매제 정화제
고온증발법을 활용한 산화 나노분말 제조 공법으로 제조되었으며 균질한 크기와 품질을 가짐. 다양한 제품군으로 활용이 가능함.
비표면적 : 8~12 ㎡/g
입자크기 - Size(㎛)
D/10 |
D/50 |
D/90 |
< 0.2 |
< 0.5 |
< 1.5 |
순도
내용물 |
값 |
Al, As, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, CU, Fe, K, Mg, Mn, Ni, P, Pb, Sb, Si, Sn, Ti, W, Zn, Zr |
< 10ppm |
합계 |
< 100ppm |
특성
저응집(기상합성법) / 작은 입자 크기 및 좁은 분포